Vascular reaction of the small intestinal wall to anthropogenic factors



Cite item

Full Text

Abstract

Full Text

Известно, что слизистая оболочка тонкой кишки - это входные ворота для патогенной и условно-патогенной микрофлоры, а также место первичного контакта с различными токсическими веществами. Потому изучение состояния микроциркуляторного русла тонкой кишки на фоне воздействия антропогенных токсических веществ представляет особый интерес. Исследования были проведены на 48 беспородных белых крысах-самцах, подвергавшихся хроническому воздействию сероводородсодержащего газа Астраханского месторождения в концентрации по сероводороду 3 мг/м3 в течение 4 мес. Первое выведение животных из эксперимента осуществляли через 1 мес от начала эксперимента, а в дальнейшем 1 раз в месяц. По итогам экспериментального воздействия были выявлены изменения в сосудах тонкой кишки, особенно в подслизистой основе и брыжейке, в том числе значительная гипертрофия сосудистой стенки. Увеличение проницаемости сосудистой стенки и обильное свечение паравазальных структур на значительной площади было определено с помощью люминесцентной микроскопии. Сосудистая стенка имела нечеткие контуры за счет плазматического пропитывания и клеточной инфильтрации. В околососудистом пространстве были выявлены слабо окрашенные участки с клеточными элементами. Отмечено нарастание коллагенизации не только в периваскулярном пространстве, но и в сосудистой стенке, при этом коллагеновые отложения имели как гомогенный, так и волокнистый характер. Зона расположения гладких миоцитов в оболочках сосудов проявила свойства интенсивной пикринофилии.
×

References

Supplementary files

Supplementary Files
Action
1. JATS XML

Copyright (c) 2018 Eco-Vector



Периодический печатный журнал зарегистрирован как СМИ Федеральной службой по надзору в сфере связи, информационных технологий и массовых коммуникаций (Роскомнадзор): 0110212 от 08.02.1993.
Сетевое издание зарегистрировано как СМИ Федеральной службой по надзору в сфере связи, информационных технологий и массовых коммуникаций (Роскомнадзор): ЭЛ № ФС 77 - 84733 от 10.02.2023.